製品案内
PRODUCT

無偏光ビームスプリッター
Non Polarizing Beam Splitter

無偏光ビームスプリッター(Non Polarizing Beam Splitter：NPBS)は、分離する割合が偏光成分に依存しない光学部品であり、
広帯域ハイブリッドタイプと狭帯域誘電体タイプがございます。

広帯域ハイブリッドタイプ

広帯域ハイブリッドタイプの無偏光ビームスプリッターは、金属膜と誘電体膜を組み合わせたハイブリッド構造を持ちます。
半導体製造装置や自動光学検査装置などの分野で、加工や測定機器のライン照射、位置検出、外観検査、光学処理などに広く利用されています。
このビームスプリッターは、広帯域の有効波長帯をカバーしており、P偏光とS偏光差を6%以内に制御します。
また、高精度のプリズムを採用することでビームの位置ズレを軽減し、ビームの偏角は2分以内での製作が可能です。

所定の波長帯に最適化したARコート(反射防止膜)を施すことで、透過効率を最大化したり、黒塗り処理を行うことで不要な反射(迷光)を取り除き、ゴースト発生を軽減することも可能です。
透過光と反射光の分離比も8：2や7：3などの任意の分離比率など、お客様のご要望に合わせたカスタム製作も承っております。

守田光学工業の無偏光ビームスプリッターは、ビームの放射方向の広がりを「2分以内」に抑える高精度プリズムで構成しています。

• プリズムの表面平面度
  平面度の高い高精度プリズムを使用することで、光がプリズムを通過する際の反射や屈折のバラつきを抑え、ビームの偏角（透過偏角）の精度を向上させます。
• プリズムの角度精度
  角度精度の高い高精度プリズムを使用することで、ビーム偏角の精度を向上させてビームの位置ズレを抑えます。

守田光学工業の無偏光ビームスプリッターは、P偏光、S偏光の差を6％以内に制御した、偏光依存性に優れた高精度な無偏光膜で構成しています。

• 高い偏光安定性
  入力光が線偏光や円偏光であっても、出力光はその偏光状態を保つことができます。
  偏光による出力光の強度や分割比が変化しない安定した出力偏光に分割します。
  ※非偏光ビームスプリッターの場合、入射光の偏光状態の影響により、分割後の光の偏光状態に影響を与える場合があります。
• 偏光に対する感度の低減
  入射光の偏光状態が不明な場合、入力偏光の微小な変化や揺らぎなどで変動をしている場合でも、その偏光による影響を排除し、出力偏光の安定性が高い一貫した性能を保ちます。
  パルスレーザーなどの偏光状態が時間的に変動するレーザー光源等を使用する場合にも有効です。

守田光学工業の無偏光ビームスプリッターは、偏光による減衰や位相変化が少なく、広い波長範囲で均等な性能を発揮します。単一波長だけでなく多波長光源や広帯域の光、異なる偏光状態の光に対しても均等な応答を持ち、スペクトルの歪みを最小限に抑えられます。

• 低損失・高偏光分離効率
  特定の偏光状態に依存することなく、光のパワーを均等に分配するため、光の利用効率を最大化させます。また、光信号の強度を最大限に保ちながら複数の光路に分配することが可能です。
• 統一性と互換性の向上
  一般的な光学系や機器との互換性が高く、幅広い応用に適しており、光学系の構築や調整が容易となります。また、統一的な光学系の設計や互換性の向上を図ることが可能となります。

無偏光ビームスプリッターのお勧め

光学顕微鏡、垂直落射照明、CCDカメラなど照明システム等では観測結果に差が生じる可能性があるため、偏光状態が重要な要素となります。

非偏光型のビームスプリッターを使用されている場合、出射光に偏光成分を含んでいるため、

• 偏光コントラスト
  偏光光を使用する場合、光の偏光方向によって試料の反射や散乱特性が変化するため、偏光コントラストが表面の凹凸の観測結果に影響を与えることがあります。
• 反射率の偏光依存性
  物質によっては光の偏光状態により、表面の鏡面反射や偏光板などで反射光が強く偏光されたりすると、反射率が異なってしまうことがあります。

これらに該当する場合には、広帯域ハイブリッドタイプの無偏光ビームスプリッターの優位性が発揮されます。
特に、多重反射での利用の場合には、より効果的です。

また、広帯域の光信号の伝送や解析では、測定誤差やノイズを軽減し、光学測定や分析の精度・信頼性や信号の品質を向上を実現させます。

狭帯域誘電体タイプ

特定の波長や出力で発光するレーザー光源の制御に使用されるキューブ型無偏光ビームスプリッターです。
532nmのダイオードレーザー(半導体レーザー)、632.8nmのヘリウム-ネオン(He-Ne)、及び1064nmのネオジウムヤグ(Nd:YAG)などの任意の制御波長に対応した設計が可能です。
半導体製造装置や自動光学検査装置などの分野で、加工や測定機器のライン照射や位置検出、光学処理などに広く利用されています。
このビームスプリッターは、広帯域の有効波長帯をカバーしており、P偏光とS偏光差を3%以内に制御します。
また、高精度のプリズムを採用することでビームの位置ズレを軽減し、ビームの偏角は2分以内での製作が可能です。